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工信部推廣兩款國產(chǎn)DUV光刻機(jī)!最小套刻≤8nm

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工信部公開推廣兩款國產(chǎn)DUV光刻機(jī)!最小套刻≤8nm

IT之家 9 月 15 日消息饼问,工業(yè)和信息化部于 9 月 9 日印發(fā)《首臺(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄(2024 年版)》通知城汹,在文件列表包含國產(chǎn)氟化氪光刻機(jī)(110nm)熏疾,和氟化氬光刻機(jī)(65nm)的內(nèi)容驶睦。



據(jù)“工信微報(bào)”介紹道晨炕,重大技術(shù)裝備是國之重器掏愁,事關(guān)綜合國力和國家安全歇由。中國首臺(套)重大技術(shù)裝備是指國內(nèi)實(shí)現(xiàn)重大技術(shù)突破、擁有知識產(chǎn)權(quán)托猩、尚未取得明顯市場業(yè)績的裝備產(chǎn)品卡催,包括整機(jī)設(shè)備、核心系統(tǒng)和關(guān)鍵零部件等溶迹。

而觀察者網(wǎng)注意到绘菲,在《首臺(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄(2024年版)》電子專用裝備目錄下,集成電路設(shè)備方面:氟化氬光刻機(jī)剩织,光源193納米雄工,分辨率≤65nm,套刻≤8nm硬拴。



IT之家附上這兩行信息截圖如下:



氟化氪(KrF)和氟化氬(ArF)兩種氣體均服務(wù)于深紫外(DUV)光刻機(jī)番产,產(chǎn)生深紫外光的準(zhǔn)分子激光器。

目前來說魁济,光刻機(jī)共經(jīng)歷了五代的發(fā)展逞翰,從最早的 436 波長,再到第二代光刻機(jī)開始使用波長 365nm i-line孙已,第三代則是 248nm 的 KrF 激光吝都。第四代就是 193nm 波長的 DUV 激光杆坪,這就是 ArF 準(zhǔn)分子激光。



圖源:平安證券

ArF(氟化氬)準(zhǔn)分子激光源光刻機(jī)鸿市,光源實(shí)際波長突破 193nm锯梁,縮短為 134nm,NA 值為 1.35焰情,最高可實(shí)現(xiàn) 7nm 制程節(jié)點(diǎn)陌凳。

此次推廣的氟化氬光刻機(jī)套刻≤8nm,套刻精度就是常說的“多重曝光能達(dá)到的最高精度”内舟,按套刻精度與量產(chǎn)工藝 1:3 的關(guān)系合敦,這個光刻機(jī)大概可以量產(chǎn) 28nm 工藝的芯片。

28 納米光刻機(jī)谒获,是芯片中低端和中高端的分界線蛤肌,意味著工業(yè)獨(dú)立,中國的空調(diào)洗衣機(jī)汽車等各類工業(yè)品批狱,可以突破西方國家設(shè)置的重重封鎖裸准,自主生產(chǎn)銷售。

來源 “工信微報(bào)”微信公眾號赔硫、IT之家炒俱、觀察者網(wǎng) 編輯 蘇航 責(zé)編 李雅歆 審核 廖爽


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 樓主| 發(fā)表于 5 天前 | 只看該作者

美論壇驚訝:未獲美國首肯,中國怎么敢擅自研發(fā) DUV 光刻板估浴?

小明為什么

中國成功研發(fā)DUV光刻機(jī)没靖,引美國輿論嘩然,質(zhì)疑聲不斷酒管。該技術(shù)突破彰顯中國自主創(chuàng)新能力和決心驱宴,增強(qiáng)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈地位。中國堅(jiān)持開放合作拌艳,推動全球科技進(jìn)步歧衡,證明科技創(chuàng)新無國界,合作共贏是正道橙樟。
摘要由作者通過智能技術(shù)生成
有用
中國成功研發(fā)出DUV光刻機(jī)庸颂,這一消息如同投入平靜湖面的一顆石子,在美國的輿論場上激起了層層漣漪沸稻。眾多網(wǎng)友紛紛參與討論扁钥,其中不乏質(zhì)疑和不滿的聲音,將一個原本屬于科技領(lǐng)域的突破所饺,渲染上了一層復(fù)雜的國際政治色彩捐煤。

透過這些喧囂的討論,我們能夠清晰地感受到美國部分人士內(nèi)心深處的不甘和焦慮蓄诽。他們似乎難以理解珠洗,為什么中國能夠在沒有美國幫助的情況下溜歪,獨(dú)立自主地完成如此重要的技術(shù)突破若专。

這種“中國需要美國批準(zhǔn)才能進(jìn)步”的潛臺詞许蓖,本身就折射出一種根深蒂固的傲慢與偏見。中國的科技發(fā)展道路调衰,從來都是依靠自身的努力和智慧膊爪,一步一個腳印走出來的。

一些美國網(wǎng)友對中國取得的成就感到不滿嚎莉,甚至表現(xiàn)出憤懣的情緒米酬。他們似乎無法接受,中國沒有事先和美國“打招呼”趋箩,就獨(dú)自完成了這項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)的突破赃额。更有一些人上綱上線,指責(zé)中國“偷偷搞研發(fā)”叫确,沒有與美國分享技術(shù)進(jìn)展跳芳。

這種說法不僅毫無根據(jù),更暴露了他們內(nèi)心深處對中國科技實(shí)力不斷增強(qiáng)的焦慮和恐慌玲装,仿佛中國在科技領(lǐng)域的崛起對他們構(gòu)成了一種莫名的威脅谍潮。那么,這個引發(fā)巨大爭議的DUV光刻機(jī)墅糯,究竟有何神奇之處慷啊?

DUV光刻機(jī),全稱深紫外線光刻機(jī)况逼,是芯片制造領(lǐng)域的核心設(shè)備之一某扑。它就像一位技藝精湛的“雕刻大師”,能夠?qū)⒃O(shè)計(jì)好的電路圖案了槽,精準(zhǔn)地“刻畫”到小小的硅片上筐积,最終形成芯片的核心部件。

整個“雕刻”過程可以分為曝光揉罗、顯影元炭、蝕刻三個主要步驟,每一步都至關(guān)重要掷情,環(huán)環(huán)相扣软吐,共同決定了最終芯片的質(zhì)量和性能。

曝光是光刻的第一步吟税,也是至關(guān)重要的一環(huán)凹耙。DUV光刻機(jī)利用波長極短的深紫外光,將預(yù)先設(shè)計(jì)好的電路圖案肠仪,如同投影一般肖抱,投射到涂有特殊光敏材料的硅片表面备典。

隨后,進(jìn)入顯影環(huán)節(jié)意述。如同沖洗照片一般提佣,經(jīng)過顯影液的處理,那些被光線照射到的區(qū)域會發(fā)生化學(xué)反應(yīng)荤崇,清晰地顯現(xiàn)出來拌屏,而未被照射到的區(qū)域則會被溶解,最終形成肉眼可見的電路圖案术荤。

最后的蝕刻環(huán)節(jié)倚喂,則是對電路圖案進(jìn)行最后的“精雕細(xì)琢”。通過化學(xué)反應(yīng)瓣戚,將那些不需要的材料去除笛吱,最終留下所需的電路圖案,完成芯片的“雕刻”工作挥痊。

早在2018年途培,中國就公開提出了自主研發(fā)DUV光刻機(jī)的計(jì)劃,并設(shè)定了在2023年實(shí)現(xiàn)技術(shù)突破的目標(biāo)轩从。面對這項(xiàng)充滿挑戰(zhàn)的任務(wù)鸣丝,中國沒有絲毫退卻,而是迎難而上融沟,決心攻克難關(guān)瘪巡,掌握核心技術(shù)。

在研發(fā)過程中浮烫,中國科研團(tuán)隊(duì)克服了無數(shù)的技術(shù)難題佳珊,例如高精度光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)、穩(wěn)定光源的制造以及復(fù)雜材料的應(yīng)用等等杆荐。他們夜以繼日听公,不懈努力,最終取得了舉世矚目的成就诉濒,讓中國芯的夢想照進(jìn)了現(xiàn)實(shí)周伦。

DUV光刻機(jī)的成功研發(fā),標(biāo)志著中國在芯片制造領(lǐng)域邁出了具有里程碑意義的一步未荒,不僅意味著中國可以降低對國外技術(shù)的依賴专挪,更增強(qiáng)了中國在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中的地位和話語權(quán)。

更重要的是片排,這項(xiàng)成就充分彰顯了中國自主創(chuàng)新的能力和決心寨腔,向世界證明,中國有能力在科技領(lǐng)域不斷取得突破率寡,實(shí)現(xiàn)從“跟跑者”到“領(lǐng)跑者”的轉(zhuǎn)變迫卢,在世界科技的舞臺上奏響屬于自己的華彩樂章倚搬。

美國對中國研發(fā)DUV光刻機(jī)的反應(yīng),折射出其根深蒂固的霸權(quán)思維乾蛤。他們似乎認(rèn)為每界,世界科技的發(fā)展應(yīng)該由他們主導(dǎo),其他國家只能亦步亦趨地跟隨幻捏,而中國自主研發(fā)DUV光刻機(jī)的舉動盆犁,無疑打破了他們心中既定的秩序。

然而故弟,時代的車輪滾滾向前,世界格局已經(jīng)發(fā)生了翻天覆地的變化噪怜。在全球化時代又蝌,科技創(chuàng)新不再是某個國家的專利,而是全人類共同的追求予售。任何試圖阻礙或壓制其他國家科技發(fā)展的行為场致,最終都將是徒勞無功的。

近年來湿斩,全球科技合作日益密切籍投,開放共享已成為不可阻擋的時代潮流。各國科學(xué)家攜手合作忧埠,共同攻克技術(shù)難題圣烤,推動人類文明進(jìn)步。

中國始終秉持開放包容的態(tài)度坤乌,積極參與國際科技合作喘建,為全球科技發(fā)展貢獻(xiàn)力量。事實(shí)證明哼御,只有打破壁壘坯临,攜手合作,才能共同創(chuàng)造更加美好的未來恋昼。

美國網(wǎng)友對中國DUV光刻機(jī)技術(shù)的反應(yīng)看靠,反映了他們在全球科技發(fā)展觀念上的滯后和偏頗。中國在沒有美國幫助的情況下取得的成就液肌,恰恰證明了科技創(chuàng)新無界限挟炬,合作共贏才是正道。

中國自主研發(fā)DUV光刻機(jī)矩屁,不僅是中國科技實(shí)力的體現(xiàn)辟宗,更是對全球科技合作與進(jìn)步的有力推動。未來吝秕,中國將繼續(xù)堅(jiān)定不移地走自主創(chuàng)新之路泊脐,為構(gòu)建人類命運(yùn)共同體貢獻(xiàn)更多力量空幻。

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